Die sinteseproses vantantaalpentakloriedsluit hoofsaaklik die volgende stappe in:
1. Voorbereiding van grondstowwe
Berei hoë suiwerheid voortantaalmetaalen hoë-suiwerheid chloor of waterstofchloried (HCl) as grondstowwe. Die suiwerheid vantantalummetaalhet 'n beduidende impak op die suiwerheid van die finale produk.
2. Chloreringsreaksie
Direkte chlorineringsmetode: Tantaalmetaal word gekap of verpoeier en dan in 'n chloorgasstroom geplaas vir 'n chlorineringsreaksie by 'n temperatuurreeks van 170-250. Chloorgas reageer met tantaal om tantaalpentachloried te produseer. Hierdie reaksie kan ook met HCl uitgevoer word, maar dit moet by 'n hoër temperatuur (soos 400) uitgevoer word.
Indirekte chlorineringsmetode: Tantaalpentachloried kan ook verkry word deur tantaalpentoksied met tionielchloried (SOCl2) by 240 °C te laat reageer. Die reaksievergelyking is:
Ta2O5+5 SOCl2 → 2 TaCl5+5 SO2.
3. Skeiding en suiwering
Koel die gas wat deur die chloreringsreaksie geproduseer word af om dit in 'n vloeistof te kondenseer.
Skei en suiwer vloeibare tantaalpentachloried van onsuiwerhede. Gewoonlik word distillasie en ander metodes gebruik om verskillende onsuiwerhede te skei gebaseer op hul kookpuntverskille. Hierdie stap is die sleutel om die suiwerheid van tantaalpentachloried te verseker.
4、 Droogbehandeling
Droog die geskeide en gesuiwerdetantaalpentakloriedom oppervlakvog en onsuiwerhede te verwyder. Droogbehandeling is noodsaaklik vir die handhawing van die stabiliteit en suiwerheid van tantaalpentachloried.
Plasingstyd: 05 September 2024